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抛光粉的基本要求


基本要求
  (1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度,过筛的筛网目数 能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
  (2)有较高的纯度,不含机械杂质;
  (3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率;好的 抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,纳米粒径的抛光粉的悬 浮性相对的要好一些,所以精抛一般选择纳米抛光粉。
  (4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;粉体的晶型是团聚在一起的单 晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破 碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,颗粒为球型的抛光粉具有良好的切削性、耐磨性和流动性。
  (5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合,硬度相对大的粉体具 有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入, 包括自身加工工艺。
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